Activator150 SiC和GaN退火及石墨烯生长

Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

Centrotherm测温系统适用于从室温**温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。
此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。
成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款较佳的手动RTP设备。

二、典型应用
?退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火
?硅化
?氧化
?掺杂活化
三、产品特性
?可在常压或者真空（控压）下工作
?高度灵活性：适用于较大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘
?升温速率约150 K/s
?出色的温度均匀性
?精确的环境控制
?高的设备可靠性
?可以并排安装
四、设备参数
衬底材料	Si, GaAs, SiC, GaN, 蓝宝石 等
晶片尺寸	较大6寸
加热系统	24 个加热灯 (独立控制) 
温度范围	室温~1200℃
工艺气体	所有通常使用的气体，如N2、Ar、O2、N2O、N2 /H2 等
尺寸	2170 * 1150 *2050 mm
功率	较大 55 kW